מפת דרכים של החברה שדלפה לרשת מעלה שהיא תשיק בשנה הבאה מעבדים עם 10 ננו-מטר, אבל אחר כך תחזור לליטוגרפיה הוותיקה יותר
קצב יישומו של חוק מור הואט בשנים האחרונות ואחד הסימנים לכך הוא שאינטל (Intel) החליטה לא מכבר לנטוש את מודל הטיק-טוק, שאפיין את קידום המעבדים שלה (שנה אחת שיפור ביצועים על ידי החלפת טכנולוגיה ושנה לאחר מכן, שיפור ביצועים בתוך אותה טכנולוגיה. הדור האחרון של מעבדי ה-Core i שלה – הדור השביעי, שמכונה Kaby Lake – היה למעשה הדור השלישי של ליטוגרפיית הייצור ב-14 ננו-מטר. לפיכך, היה צפוי שבדור הבא של המעבדים החברה כבר תעבור להשתמש בליטוגרפיה של 10 ננו-מטר ותמשיך איתה משם. אבל, לפי מפת דרכים של מוצרי החברה שהודלפה לרשת, אינטל מתכוונת גם בעתיד להשתמש בקווי הייצור של ה-14 ננו-מטר.
במהלך 2017 אמורה אינטל להשיק את הדור השמיני של מעבדי ה-Core i, שמכונה Cannon Lake. משפחת המעבדים הללו אכן תיוצר ב-10 ננו-מטר, כצפוי. אבל, כחצי שנה לאחר מכן, ולכל המוקדם בתחילת 2018, אמורה להגיע לשוק משפחה נוספת של מעבדים בשם Coffee Lake, ובה אמורה החברה לחזור ל-14 ננו-מטר.
ההערכה היא שמשפחה זו תכלול בפעם הראשונה מעבדי שש ליבות. מעבדים אלה יהיו גדולים פיזית, כולל האריזה, ממעבדי ארבע ליבות ופחות, וייתכן שזו הסיבה לחזרה אחורה מבחינת הייצור. לצד Coffee Lake, אמורה אינטל, לפי הדיווחים, להציג פלטפורמה שתכלול תושבת שתחליף את LGA 1151 בה נעשה כיום שימוש. כנראה שזה יקרה בדור השמיני.
| {loadposition content-related} |
