טכנולוגיית Cold Field Emission מבוססת קרן אלקטרונים המיועדת לבדיקת תהליכי ייצור שבבים בקנה מידה ננומטרי, מגדילה את רזולוציית התמונה בעד 50%, ואת מהירות ההדמיה עד פי 10
אפלייד מטיריאלס העולמית מכריזה על פריצת דרך בתחום טכנולוגיית eBeam, טכנולוגיית הדמייה אשר מבוססת על קרן אלקטרונים. הטכנולוגיה החדשה פותחה בישראל, בה פועלת חטיבת Process Diagnostics and Control של אפלייד מטיריאלס, המנוהלת על ידי רפי בן עמי.
יצרניות השבבים משתמשות בטכנולוגיית eBeam כדי לזהות ולאפיין פגמים שמפאת גודלם אינם ניתנים לזיהוי על ידי מערכות אופטיות. מציאת פגמים על פני השטח או מוסתרים בעומק הופכת למאתגרת יותר ויותר ככל שיצרניות השבבים משפרות את ביצועי השבבים על ידי מזעור באמצעות ליתוגרפיית EUV, ובאמצעות מעבר לארכיטקטורות תלת ממד מורכבות כמו טרנזיסטורים חדשניים מסוג Gate All Around (GAA). פריצת הדרך הטכנולוגית של אפלייד מטיריאלס תאפשר ליצרניות השבבים להאיץ את תהליכי הפיתוח והייצור שלהן באמצעות טכנולוגית eBeam.
טכנולוגיית "Cold Field Emission" החדשה של אפלייד משפרת את רזולוציית התמונה בעד 50% לערכים הקטנים מננומטר בודד, ואת מהירות ההדמיה עד פי 10. כתוצאה, טכנולוגיה זו מאפשרת ללקוחותיה של אפלייד לאתר פגמים קטנים על פני השטח או בעומק שעד כה לא ניתן היה לראותם, ובכך לקצר את תהליך הפיתוח והייצור של השבבים, ולשפר את ביצועיהם.
בהמשך להודעה, אפלייד הציגה שני מוצרי CFE eBeam חדשים – SEMVision G10 לאפיון פגמים ו-PrimeVision 10 למציאת פגמים. המוצרים הללו יחזקו את ההובלה של אפלייד בשוק האבחון והבקרה של תהליכי eBeam.
