אינטל מדווחת על פריצת דרך טכנולוגית. סורק ה-EUV שהיא מפעילה במפעל שלה באירלנד ייצר לראשונה אור באורך גל של 13.5 ננומטר ומקדם את טכנולוגית אינטל 4
Fab 34 של אינטל באירלנד החל בהפעלת מערכת הליתוגרפיה האולטרה סגולה הקיצונית (EUV) הראשונה שלה, המאפשרת ייצור בתהליך Intel 4 מזה מספר חודשים. מאז הגעתה עובדים צוותי אינטל אירלנד על התקנת המערכת המיוצרת על ידי היצרן ההולנדי ASML. השבוע הם הגיעו לציון דרך חשוב שבו סורק EUV ייצר לראשונה אור באורך גל של 13.5 ננומטר.
"אבן דרך זו ב- Fab ב- Leixlip, אירלנד, היא צעד מפתח בדרכה של אינטל לייצור בנפח גבוה של טכנולוגיית Intel 4 והיא הפעם הראשונה שבה נעשה שימוש בסורק EUV בנפח גבוה באירופה." נאמר בהודעת החברה.
"אבן דרך זו היא שיאם של שנים רבות של הכנה. התכנון, ההכנה והדיוק הנדרשים לאספקת ליתוגרפיה של EUV בייצור בכמויות גדולות הם חסרי תקדים. הגעת המכונה למפעל סוללת את הדרך לטכנולוגיית Intel 4, שהשיגה את אבן הדרך המרכזית שלה במוכנות הייצור עד הרבעון האחרון של 2022 לייצור מוצרים כמו מטאור לייק בשנת 2023. החידושים הייחודיים של אינטל בתחום התהליכים והגישה שלה ל-EUV עם תהליך Intel 4 שומרים על אינטל במסלול אספקת חמישה צמתים בארבע שנים ולעמוד במחויבותה להחזיר לעצמה את הובלת טכנולוגיות תהליך הייצור עד 2025."
