אחת הסוגיות שנידונה בשבוע שעבר בכנס סמיקון ווסט בסן פרנסיסקו נגעה לחוסר הודאות באשר למפת הדרכים של הליתוגרפיה המתקדמת
.
 |
| ליתוגרפיה באמצעות קרן לייזר |
אחת הסוגיות שנידונה בשבוע שעבר בכנס סמיקון ווסט בסן פרנסיסקו נגעה לחוסר הודאות באשר למפת הדרכים של הליתוגרפיה המתקדמת. כך מוסר השבוע אתר EETIMES
לאי ודאות זו יש השלכות באשר לעלויות ולגרום לכאוס רב בתעשיה ואולם למרות הכרזות אמיצות של ספקים ומשתמשים נראה כי התעשיה מתכוננת לימים קשים יותר.
גרג בארלט (Bartlett), סגן נשיא בכיר למחקר ופיתוח בגלובל פאונדריז אמר בנאומו ב-14 ביולי כי החברה תתקין כלי ליטוגרפית EUV מוכנות לייצור בשנת 2012, ותתחיל להשתמש בהם בייצור ככל הנראה ב-2014. ואולם מרבית המאזינים מהתעשיה נשארו ספקנים. ותסמיני חוסר הודאות נשמעו בכל מושב שעסק בליתוגרפיה מתקדמת.
ג'ונווק קיי, חבר בכיר בצוות הטכני של גלובל פאונדריז הסיר את הערפל מכמה מהסוגיות בהן עסק בארלט. לדבריו, העוסקים בליטוגפריה כבר עובדים בהתקנים נומריים גבוהים ביותר ונמוכים ביותר מאשר ניתן היה להשיג לפני מספר שנים. גם כך, תבניות אקראיות היו כמעט בלתי אפשריות להדפסה, וציוד הליטוגרפיה הקיים היה חסר אופציות. קיי הזהיר כי העלות המלאה של שימוש בתבניות כפולות גדל כל כך עד שה –EUV שהוא גם כך המכשיר היקר ביותר האפשרי – ייראה כמו חלופה זולה. עדיין, אמר, spacer-defined double patterning יהיה מתקן חיוני לכמה מהשכבות הקריטיות.
