תגית: High-NA EUV

תהליך הייצור הבא של Intel Foundry הופך למבחן קריטי לעתיד עסקי הייצור של אינטל. לפי דיווח חדש, שמונה מחברות הטכנולוגיה ...

אינטל כבר משתמשת במערכות החדשות בייצור, סמסונג מתכננת להכניסן לייצור DRAM ב־2028 ו־TSMC מתכננת ייצור המוני החל מ־2030. המכונות, שמחירן ...

המסכות החדשות נועדו להחזיר את שדה החשיפה המלא של מערכות הליתוגרפיה המתקדמות, לצמצם את הצורך בחיבור בין שתי חשיפות ולאפשר ...

הדור הבא של ליתוגרפיית ה-EUV כבר משמש לשכבות נבחרות במעבדי Panther Lake בתהליך Intel 18A. במקביל מקדמות החברות מסכות גדולות ...