חברת Shanghai Yuliangsheng פיתחה מכונת ליתוגרפיה immersion בשם "Mount Everest", ש־SMIC החלה לבדוק; שילוב בקווי ייצור צפוי ב־2027, והיכולת לייצור מתקדם מתחת ל־10 ננומטר תדרוש עוד שנים רבות
חברת SMIC, יצרנית השבבים הגדולה בסין, החלה בבדיקות של אחת ממכונות הליתוגרפיה המקומיות הראשונות בטכנולוגיית DUV immersion. המערכת פותחה על־ידי Shanghai Yuliangsheng Technology, המקושרת ל־Huawei באמצעות חברת SiCarrier, ומהווה נדבך משמעותי במאמץ של סין להגיע לעצמאות בייצור ציוד לייצור פרוסות שבבים.
על פי הפרטים שפורסמו ב־Financial Times, המכונה – המכונה בקוד "Mount Everest" – תוכננה לייצור בטכנולוגיות של 28 ננומטר, אך באמצעות שימוש בשיטות ריבוי דפוסים (multipatterning) ניתן יהיה להפעילה גם עבור תהליכי 7 ננומטר ואף 5 ננומטר. מרבית רכיביה יוצרו בסין, אך עדיין קיימים חלקים מיובאים. המטרה המוצהרת היא לייצר שרשרת אספקה מקומית מלאה, שתנטרל את ההשפעה של מגבלות היצוא מארה"ב ומאירופה.
המערכת מזכירה מבחינה טכנית את ASML Twinscan NXT:1950i משנת 2008, שיועדה במקור ל־32 ננומטר אך שימשה גם לייצור ב־22 ננומטר. בעוד ASML כבר פיתחה דורות מתקדמים בהרבה (NXT:2000i ואילך) ל־7 ננומטר ומטה, היכולת של Yuliangsheng להגיע לאותה רמת דיוק, ביצועים ושליטה עדיין מוטלת בספק.
לפי ההערכות, שילוב הכלים בייצור המוני ב־SMIC צפוי להתחיל רק ב־2027, לאחר השלמת שלבי ההסמכה. עד אז תמשיך SMIC להסתמך על מערכות של ASML. גם לאחר הכנסת הכלים ל־28 ננומטר, המעבר ל־16 ננומטר ומשם לתת־10 ננומטר צפוי להימשך שנים, כאשר התחזיות זהירות ואינן מצפות ליכולת מקומית אמינה ב־7 ננומטר לפני 2030.
הפרויקט מהווה אינדיקציה ברורה לנחישות של סין לצמצם תלות חיצונית בציוד קריטי לייצור שבבים מתקדמים. עם זאת, הדרך לעצמאות מלאה בתחום הליתוגרפיה עדיין ארוכה ומורכבת.
