ייצור שבבים. תצלום יח"צ TSMC |
חברת ASML, היצרנית האירופית הגדולה ביותר של ציוד לייצור שבבים מסרה כי TSMC מתכננת לרכוש שני סורקים בתחום האולטרה סגול הקיצוני extreme ultraviolet (EUV) בשנה הקרובה כדי להרחיב את גבולות טכנולוגית העיבוד שלה, פוטנציאלית עד ל-7 ננומטר.
"סורקי ה-EUV מיועדים ל-10 ננומטרים" אומר פירסט ואן הוט ף סגן נשיא בכיר ב-ASML באירוע של TSMC שהתקיים ב-4 בדצמבר. "הם עומדים להשתמש בהם כדי להכין את מפעלי הייצור בטכנולוגית 7 ננומטר". שנתי המערכות יועברו לחברה בשנת 2015 והן יתווספו למערכות דור קודם של ASML.
TSMC סירבה להגיב על הידיעה.
המעבר ל-EUV מאותת על שינוי בחשיבה המקובלת אודות הדור הבא של ציוד ליתוגרפיה. ההערכה המוקדמת היתה שיצרני השבבים ישתמשו בטכנולוגית ליתוגרפית ההטבלה המסורתית בשבבי 10 ננומטר במקום בחלק הארוך של מערכות ה-EUV.
{loadposition content-related} |