אינטל ו-ASML: יותר ממיליון פרוסות סיליקון כבר עברו במערכות High-NA EUV
הדור הבא של ליתוגרפיית ה-EUV כבר משמש לשכבות נבחרות במעבדי Panther Lake בתהליך Intel 18A. במקביל מקדמות החברות מסכות גדולות יותר, שיאפשרו לנצל בעתיד את מלוא שדה החשיפה של מערכות High-NA
קרא עוד






















































